为了研究高湿度、持续下雨或大雾对复合绝缘子表面憎水性的影响,将新复合绝缘子分别浸泡在配置好的不同p H值溶液中来模拟这类状况,并采取泄漏电流法和Fourier变换红外光谱相结合的方法进行了分析。研究发现:持续浸泡情况下,绝缘子表面的泄漏电流有效值和tanδ随浸泡时间增加而变大;在碱性Na OH溶液中浸泡的绝缘子的表面泄漏电流有效值和tanδ比酸性H2SO4溶液和中性溶液(去离子水和Na Cl溶液)的更大。分析红外光谱图谱得到:碱性溶液中硅橡胶主链和主要憎水集团的峰面积和最大峰值都比其他溶液中的小,碱性溶液更容易破坏硅橡胶憎水集团的化学键;碱性溶液更容易使绝缘子表面丧失憎水性,而去离子水和中性盐溶液对绝缘子憎水性的影响区别很小纵轴线通过吸收峰的最大值，测出的结果就是参照线修正过的峰面积，如图6(b)所示，参照线与红外光谱图所截得的面积就为所求。绝缘子憎水性研究-电动折弯机数控滚圆机滚弧机折弯机张家港电动滚圆机滚弧机扫描硅橡胶材料得到的红外光谱图如图6(a)所示。本文中对实验研究的分子集团的红外光谱进行放大，便于观察和测量Si—O—Si和Si—CH3时参照线的位置，减小误差，本文由公司网站滚圆机网站 转摘采集转载中国知网整理!   http://www.dapengkuoguanji.com/ 提高测量准确度。图6(b)是图6(a)中Si—O—Si和Si—CH3部分图谱的局部放大图。图6(a)中：纵坐标为本文定量分析参数即吸光度；横坐标为波数。不同的波数所对应的分子集团是不同的，依次是：850~870cm1这段波数显示的图3Fourier变换红外光谱仪Fer图4采集位置示意是Si—(CH3)2集团的吸收峰；1000~1100cm1这段波数显示的是主链Si—O—Si的吸收峰；1250~1270cm1这段波数显示的是Si—CH3的吸收峰；2960~2962cm1这段波数显示的是C—H的吸收峰；3500~3500cm1这段显波数示的是—OH的峰值。因为在新绝缘子生产过程中的阻燃添加剂Al(OH)3有—OH，另外分子集团的化学键在水解断裂时跟水作用也会有—OH产生，所以详细的产生过程和添加剂中—OH所占的比例目前不是很清楚。本文根据Fourier变换红外光谱仪采集到的图谱，分析复合绝缘子在不同pH值的H2SO4溶液、NaOH溶液以及pH值为7的NaCl溶液和去离子水中浸泡以后硅橡胶主链Si—O—Si和侧链Si—CH3的峰高和峰面积，以及—OH的变化。图7为6支新绝缘子在浸泡前的红外光谱全谱图。图8为浸泡在不同pH值溶液里的绝缘子硅橡胶主链Si—O—Si和侧链甲基Si—CH3部分的红外。 绝缘子憎水性研究-电动折弯机数控滚圆机滚弧机折弯机张家港电动滚圆机滚弧机本文由公司网站滚圆机网站 转摘采集转载中国知网整理!   http://www.dapengkuoguanji.com/